MPO/MTP研磨パッド
GRISH製MPO / MTP研磨パッドは、相互接続された優れた微孔性構造に備えており、研磨加工する際に研磨安定性・耐摩耗性に優れています。また当社の研磨スラリーをセットして、MPO / MTPの超精密研磨に最適です。
当社推奨研磨スラリー：酸化アルミナスラリー、酸化セリウムスラリー。
仕様
| 材質 | ポリウレタン |
| 砥粒 | 無し |
| 色 | 黒色 |
| 厚み(mm) | 0.70-1.10 |
| ショア硬度（A） | 70-90 |
| 密度(g/cm3) | 0.500-0.700 |
| スペック | ディスク：Φ127mm、両面テープ付き シート：140mm*140mm、両面テープ付き |
特徴
◆品質が安定、耐摩耗性が高い。
◆研磨液の保持性が高く、研磨効率を向上させる。
◆製品のクッション性が高く、パネルへのダメージが少ない。
◆ハイコストパフォーマンスを持つ。
用途
◆MPO/MTPコネクタの仕上げ研磨。
◆ウェーハ、ガラス、金属、セラミックの高平坦度加工
玻底培养皿和玻底培养板使用方法(以35mm皿，10mm孔为例)
预平衡：在玻底培养皿加入3ml培养液，在培养箱中放置15分钟。
加细胞：吸去培养液，在底孔中加入500ul含细胞的培养液。在培养箱中放置2小时，让细胞沉降贴壁。
