CMPスラリー
CMPスラリーはサファイア、SICウェハー、窒化アルミニウム、セラミックス、金属材料などのポリッシュ加工専用に最適化されたシリカスラリーです、粒子径の均一性に優れ、分散安定性が高く、均一でかつ良好な仕上げ面が得られます。またはお客様のご要望により用途や使用条件に応じたオリジナルの研磨スラリーをご提供できます。
仕様
品番 | 粒径 | 形状 | pH値 | 粘度 | 濃度 |
SOQ-12D | 110nm-130nm | 球状 | 10.5±0.5 | ＜20cst | 20% |
SO-100-PF | 90nm-120nm | <10cst | 20-50% | ||
SO-80-PF | 70nm-90nm | ||||
SO-60-PF | 50nm-70nm | ||||
SO-40-PF | 30nm-50nm | ||||
SO-20-PF | 10nm-30nm | <30cst | 10-40% | ||
測定方法 | レーザー回析散乱法 | SEM/TEM | pH計 | 粘度計 | 比重計 |
＊規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。
特徴：
◆粒子径の均一性（シャープな粒子径分布、真球状の粒子）。
◆高能率（独自な配合、pHが変動しない）。
◆高平坦度（表面品質：Ra＜0.2nm、TTV＜3μ）。
◆循環使用回数が多い。
◆低温ポリッシュ加工可能（35℃以下）。
◆SICウェハー加工用に特殊配合したスラリーをご提案。
◆窒化アルミニウム加工用に中性・弱酸性のスラリーを対応可能。
用途：
◆ SiC表面仕上げSC-O80A、SC-O100A
◆ サファイア LED 材料の研磨･ポリッシング SA-O80A，SA-O100A
◆ 金属(ステンレスアルミニウム-マグネシウム合金）DS60
◆ 光学結晶体（ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム）NL-O80A，TL-O80A，NL-O60A
◆ 窒化アルミニウム基板SO-40-PF
◆ 光ファイバーコネクター SOQ-12D
◆ リン化インジウム、ガリウムヒ素IP-O80A，GS-O80A
